真空共晶爐

真空共晶爐、燒結(jié)爐，緊湊臺(tái)式設(shè)計(jì)，可在氮?dú)?甲酸等氛圍操作，廣泛用于激光、射頻電路、功率器件等微電子光電子行業(yè)的晶粒貼裝，以及金-硅合金，密集焊接和回流共晶

真空共晶爐、燒結(jié)爐，緊湊臺(tái)式設(shè)計(jì)，可在氮?dú)?甲酸等氛圍操作，廣泛用于激光、射頻電路、功率器件等微電子光電子行業(yè)的晶粒貼裝，以及金-硅合金，密集焊接和回流共晶。
主要型號(hào)及技術(shù)參數(shù)：

• RSO-200：溫度650攝氏度，加熱區(qū)域：200mm x 170mm；
• VSS-300：溫度450攝氏度，加入?yún)^(qū)域：300mm x 300mm；
• VPO-650：溫度650攝氏度，加熱區(qū)域：300mm x 300mm；

• 真空焊接系統(tǒng)相對(duì)于傳統(tǒng)的回流焊系統(tǒng)，主要使用真空在錫膏/焊片在液相線以上幫助空洞排出，從而降低空洞率。因?yàn)檎婵障到y(tǒng)的存在，可以將空氣氣氛變成氮?dú)鈿夥眨瑴p少氧化。同時(shí)真空的存在也使得增加還原性氣氛可能性。

  真空去除空洞

  在大氣環(huán)境下，液態(tài)狀態(tài)下的錫膏/焊片中的空氣氣泡/助焊劑形成的氣泡也處于大氣氣壓下。當(dāng)外界變?yōu)檎婵窄h(huán)境，兩者之間的氣壓差可以讓在液態(tài)錫膏/焊片中的氣泡體積增大，與相鄰的氣泡合并，從而后到達(dá)表面排出。隨后氣壓恢復(fù)，殘留其中的剩余氣泡會(huì)變小繼續(xù)殘留在體系中。

  從工業(yè)生產(chǎn)的角度而言，有以下幾點(diǎn)需要指出:

• 的高真空(某些廠家宣稱的10 -n mbar)理論上來(lái)說(shuō)確實(shí)可以更大程度的減少空洞率，因?yàn)閴毫Σ钍菤馀菖懦龅尿?qū)動(dòng)力。然后抽高真空需要極長(zhǎng)的時(shí)間，在實(shí)際生產(chǎn)中需要考慮。另外高于液相線的時(shí)間也需要考慮。而且事實(shí)由于生產(chǎn)腔體的材料表面不是*平整，會(huì)吸附一些氣體和液相物質(zhì)，達(dá)到的高真空從某種程度上來(lái)說(shuō)是理論可能。
• 的0%空洞率不可能達(dá)到，在生產(chǎn)中無(wú)法保證*去除每一個(gè)氣泡。一般來(lái)說(shuō)所謂低空洞率的要求是總空洞率<3%，大空洞<1%。